Oberflächenveredelung

Oberflächenveredelung durch Beschichten im Vakuum aus der Gasphase

Der CVD-Prozeß (Chemical Vapor Depostion) beruht auf einer im Vakuum unter Wärme und Strahlungsenergie ablaufenden Reaktion, deren Produkte sich auf der Substratoberfläche abscheiden.

Zur Oberflächenveredelung von Werkzeugen finden z.B. aus Titancarbid (TiC), Titannitrid (TiN), Titancarbonitrid (TiCN) und Aluminiumoxid (Al2O3) eine breite Anwendung.

TiCl4 + CH4 + H2 = TiC + 4 HCl + H2

TiCl4 + ½ N2 + H2 = TiN + 4 HCl

2 TiCl4 + 2x CH4 + y N2 = 2 TiCxNy + 8 HCl

AlCl33/2 H2O = Al2O3 + 3 Hcl

PVD ist die Abkürzung von Physical Vapor Deposition. Das Verfahren beruht auf dem Verdampfen einer oder mehrerer Schichtkomponenten in unterschiedlichen Plasmen und Abscheidung auf der Substratoberfläche.

Beispiele:

Titancarbid (TiC), Titancarbonitrid (TiCN), Titanaluminiumnitrid (TiAlN), Chromnitrid (CrNx) und Woframcarbid/Kohlenstoff (WC/C).

Oberflächenvergütung durch Ionenimplantation

Hierbei wird keine Deckschicht erzeugt, sondern die Oberfläche selbst durch Implantation von z.B. Metallionen modifiziert.

Beratung / Werkstofftechnik 

home